中级工业设备中有繁多的机械设备都可以做到十纳米级别的抛光，物理化学实验大楼中都有这样的设备。
对于一台抛光机来说，它的核心器件是“磨盘”。
超精密抛光对抛光机中磨盘的材料构成和技术要求可以说是正常苛刻。
这种苛刻能比的上顶级的纳米光刻机。
因为它不仅要满足自动化操作的纳米级精密度，更要具备精确的热膨胀系数。
热膨胀系数才是影响抛光机精密的主要原因。
因为当抛光机处在高速运转状态时，高速运转的摩擦会产生大量的热，一旦热作用于磨盘上，制造磨盘的材料会膨胀。
如果热膨胀作用导致磨盘的热变形，基片的平面度和平行度就无法保证。
而这种不能被允许发生的热变形误差不是几毫米或几微米，而是几纳米。
在他之前，各国无法制造出低纳米级抛光机的主要原因也就在此。用什么材料和工艺才能合成这种热膨胀率低、耐磨度高、研磨面超精密的磨盘，才是关键。
尽管在此之前，顶级的超精密抛光技术还只能做到三十纳米。
但这种技术，在他制造纳米级光刻机之前，一直都是被小岛国、米国、日耳曼国这三个国家把控的。
他们据此掌控着超精密抛光工艺的核心技术，也牢牢把握了全球市场的主动权。
而事实上，把握住这项技术，也就在很大程度上掌控了电子制造业的发展。
比如小岛国产的抛光机的研磨盘，均为定制，从不进行批量生产，直接限制了他国仿制。
而米国的抛光设备销往华国，价格基本都在1000万元米金以上，而且出售的还都是自己早已经不用，精度在五十纳米以上的产品。
华国的芯片无法自制，没有掌握超精密抛光技也是原因之一。不过这个问题随着他的直播，早已经被解决了。
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